发明名称 |
一种洁净室用晶片清洗工作台 |
摘要 |
一种洁净室用晶片清洗工作台,涉及空气净化装置领域,尤其是一种洁净室用晶片清洗工作台,该工作台是一个柜体,该柜体分为上中下三个部分,上部为空气循环系统,中部为工作区域,下部是一个支撑台。本实用新型的一种洁净室用晶片清洗工作台,设计科学,使用方便,把清洗窗口、甩干窗口及验片窗口整合在同一操作台上,实现了在及时排出清洗晶片产生的有害气体的同时,减少了晶片再次受到沾污的机会,大大提高了生产效率。 |
申请公布号 |
CN205723474U |
申请公布日期 |
2016.11.23 |
申请号 |
CN201620672887.3 |
申请日期 |
2016.06.30 |
申请人 |
云南中科鑫圆晶体材料有限公司;昆明云锗高新技术有限公司;云南鑫耀半导体材料有限公司 |
发明人 |
肖祥江;李苏滨;惠峰;李雪峰;柳廷龙;李武芳;周一;杨海超;候振海;囤国超;田东 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 |
代理人 |
张亦凡 |
主权项 |
一种洁净室用晶片清洗工作台,其特征在于该工作台是一个柜体,该柜体分为上中下三个部分,上部为空气循环系统,中部分为工作区域,下部分是一个支撑台;其中:空气循环系统包括高效过滤器(10)、静压箱(3)、风机(2)和抽风管(4),高效过滤器(10)顶端设置静压箱(3),静压箱(3)顶部开口处设置有风机(2),静压箱(3)后侧中央设置抽风管(4);工作区域分为操作区和流通区,操作区包括矩形横杆(8)、垂直隔板(11)和操作窗口(20),矩形横杆(8)底端安装操作窗口(20),操作窗口(20)通过两块垂直隔板(11)分隔为清洗窗口(13)、甩干窗口(14)及验片窗口(15),清洗窗口(13)中设置有清洗槽(26),清洗槽(26)里设置摆放台面(25),摆放台面(25)底部设置支撑脚(1),甩干窗口(14)和验片窗口(15)中设置载物隔板(22),流通区由前挡板(21)、水平隔板(23)、导流板(17)、斜向导流板(19)、背板(9)和盖板(6)构成,载物隔板(22)和导流板(17)设置通风圆孔(12)。 |
地址 |
650000 云南省昆明市高新技术开发区新城高新技术产业基地B-5-5地块 |