发明名称 |
一种石墨烯导电薄膜的制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种石墨烯导电薄膜的制备方法,属于导电薄膜生产技术领域。所述方法包括以下步骤A.沉积镍薄膜层:在玻璃基底上沉积镍薄膜层;B.沉积石墨烯薄膜层:采用CVD法沉积石墨烯薄膜层,所述石墨烯薄膜层的厚度为50~90μm;C.清洗、干燥:将步骤B得到的半成品进行降温处理,待温度降至室温后,将石墨烯薄膜层用稀硝酸进行清洗,去除表面镍薄膜层,然后进行干燥即可。本发明具有生产成本低,效率高的优点。 |
申请公布号 |
CN106158145A |
申请公布日期 |
2016.11.23 |
申请号 |
CN201610465005.0 |
申请日期 |
2016.06.24 |
申请人 |
成都天航智虹企业管理咨询有限公司 |
发明人 |
何娟 |
分类号 |
H01B13/00(2006.01)I;H01B1/04(2006.01)I |
主分类号 |
H01B13/00(2006.01)I |
代理机构 |
成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 |
代理人 |
苏丹 |
主权项 |
一种石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:A.沉积镍薄膜层在玻璃基底上沉积镍薄膜层;所述沉积镍薄膜层的方法为磁控溅射法,本底真空度:5×10<sup>‑5</sup>~2×10<sup>‑4</sup>Pa,衬底温度50~80℃;B.沉积石墨烯薄膜层采用CVD法沉积石墨烯薄膜层,所述石墨烯薄膜层的厚度为50~90μm;C.后处理将步骤B得到的半成品进行降温处理,待温度降至室温后,将石墨烯薄膜层用稀硝酸进行清洗,去除表面镍薄膜层,然后进行干燥即得到所述石墨烯导电薄膜。 |
地址 |
610000 四川省成都市高新区府城大道西段399号7栋1单元14层5号 |