method and Apparatus for Processing Substrate

摘要

본 발명은 기판 처리 장치 및 가열 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 내부에 처리 공간을 제공하는 하우징과; 상기 하우징 내에서 기판을 지지하는 플레이트, 상기 플레이트를 가열하는 히터 및 상기 히터를 제어하는 제어기를 가지는 가열 유닛을 포함하되, 상기 제어기는 상기 플레이트를 가열초기온도부터 설정온도까지 가열시 상기 가열이 단계적으로 이루어지도록 상기 히터를 제어한다.