| 发明名称 | 薄膜电容器及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种薄膜电容器及其制造方法。该薄膜电容器包括：半导体衬底；第一金属层，其位于所述半导体衬底上；电介质层，其位于所述第一金属层上；以及第二金属层，其位于所述电介质层上，与所述第一金属层一起将所述电介质层夹在中间构成“三明治”结构。本发明采用聚四氟乙烯(Teflon)作为两层铝薄膜电极之间的电介质层，因此更适合溅射沉积，并且在室温下即可沉积，且具有沉积速率较高的优点。 | ||
| 申请公布号 | CN106158376A | 申请公布日期 | 2016.11.23 |
| 申请号 | CN201610787122.9 | 申请日期 | 2016.08.31 |
| 申请人 | 北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司 | 发明人 | 刁克明 |
| 分类号 | H01G4/33(2006.01)I;H01G4/14(2006.01)I;H01G4/10(2006.01)I | 主分类号 | H01G4/33(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人 | 周娇娇;谭辉 |
| 主权项 | 一种薄膜电容器，其特征在于，包括：半导体衬底；第一金属层，其位于所述半导体衬底上；电介质层，其位于所述第一金属层上；以及第二金属层，其位于所述电介质层上，与所述第一金属层一起将所述电介质层夹在中间构成“三明治”结构。 | ||
| 地址 | 100071 北京市丰台区小屯路150号 | ||