发明名称 |
一种可校正物料起伏的光刻装置及方法 |
摘要 |
本发明公开一种可校正物料起伏的光刻装置,其特征在于,包括:照明系统,用于提供一光刻光束;掩模台,用于承载掩模;掩模台垂向传感器,用于探测并控制一掩模台的垂向位置;掩模调焦调平系统,用于测量掩模的面形;工件台,用于承载基板运动,补偿掩模和基板面形的低阶量;基板调焦调平系统,用于测量基板的面形;工件台垂向传感器,用于探测并控制一工件台的垂向位置;物镜阵列,由多个单物镜组成的两列物镜,单物镜包括上方可动镜片和下方可动镜片,所述上方可动镜片和下方可动镜片具有垂向调整功能,上方可动镜片用于补偿掩模局部面形高阶量,下方可动镜片用于补偿基板局部面形高阶量;掩模调焦调平系统和基板调焦调平系统位于两列物镜之间,掩模调焦调平系统位于基板调焦调平系统的正上方。 |
申请公布号 |
CN106154759A |
申请公布日期 |
2016.11.23 |
申请号 |
CN201510175996.4 |
申请日期 |
2015.04.15 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
陈丹;王献英 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅 |
主权项 |
一种可校正物料起伏的光刻装置,其特征在于,包括:照明系统,用于提供一光刻光束;掩模台,用于承载掩模;掩模台垂向传感器,用于探测并控制一掩模台的垂向位置;掩模调焦调平系统,用于测量掩模的面形;工件台,用于承载基板运动,补偿掩模和基板面形的低阶量;基板调焦调平系统,用于测量基板的面形;工件台垂向传感器,用于探测并控制一工件台的垂向位置;物镜阵列,由多个单物镜组成的两列物镜,单物镜包括上方可动镜片和下方可动镜片,所述上方可动镜片和下方可动镜片具有垂向调整功能,上方可动镜片用于补偿掩模局部面形高阶量,下方可动镜片用于补偿基板局部面形高阶量;掩模调焦调平系统和基板调焦调平系统位于两列物镜之间,掩模调焦调平系统位于基板调焦调平系统的正上方。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 |