发明名称 |
掩膜版与焦点偏移的判断方法 |
摘要 |
本申请提供了一种掩膜版与焦点偏移的判断方法。该掩膜版包括套刻标记,该套刻标记具有至少两个图形,且各图形平行或垂直,各图形具有至少三个相互平行的矩形,各矩形的宽度不相等,相邻两个矩形之间具有间距。上述掩膜版的图形中的矩形的宽度不相等,当将掩膜版的套刻标记转移到光刻胶上时,若焦点出现较小的偏移,光刻胶上的宽度较小的矩形出现桥接现象,光刻胶上的两个图形的中心点就会偏离初始掩膜版的套刻标记,从而可以判断焦点出现偏移;焦点偏移的程度增加,光刻胶上出现桥接的矩形的数目增加,测量得到中心点的偏移程度增加,所以利用本申请的掩膜版可以灵敏地、实时地判断焦点是否出现了偏移。 |
申请公布号 |
CN106154739A |
申请公布日期 |
2016.11.23 |
申请号 |
CN201510179230.3 |
申请日期 |
2015.04.15 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
邹永祥 |
分类号 |
G03F1/42(2012.01)I;G03F1/44(2012.01)I |
主分类号 |
G03F1/42(2012.01)I |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 |
代理人 |
赵囡囡;梁文惠 |
主权项 |
一种掩膜版,包括套刻标记,所述套刻标记具有至少两个图形,且各所述图形平行或垂直,其特征在于,各所述图形具有至少三个相互平行的矩形,各所述矩形的宽度不相等,相邻两个所述矩形之间具有间距。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |