| 发明名称 | 包含Al‑Te‑Cu‑Zr合金的溅射靶及其制造方法 | ||
| 摘要 | 一种Al‑Te‑Cu‑Zr合金溅射靶，其特征在于，所述溅射靶含有20原子％～40原子％的Te、5原子％～20原子％的Cu、5原子％～15原子％的Zr，剩余部分包含Al，并且在靶组织中不存在Te相、Cu相和CuTe相。本发明的课题在于提供一种可以有效地抑制溅射时的粉粒产生、结瘤产生等、并且可以减少靶中所含的氧的Al‑Te‑Cu‑Zr合金溅射靶及其制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN106164329A | 申请公布日期 | 2016.11.23 |
| 申请号 | CN201580016432.4 | 申请日期 | 2015.02.06 |
| 申请人 | 捷客斯金属株式会社 | 发明人 | 小井土由将 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C22C21/00(2006.01)I;C22C30/02(2006.01)I;H01L27/105(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I;H01L49/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 胡嵩麟;王海川 |
| 主权项 | 一种Al‑Te‑Cu‑Zr合金溅射靶，其特征在于，所述溅射靶含有20原子％～40原子％的Te、5原子％～20原子％的Cu、5原子％～15原子％的Zr，剩余部分包含Al，并且在靶组织中不存在Te相、Cu相和CuTe相。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||