| 摘要 |
본 발명은 기판 디핑 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게 설명하면 기판에 형성된 홈에 나노입자들을 균일하게 충진 시키기 위하여, 기판을 용액의 표면과 일정한 각도 및 속도를 유지하여 디핑함으로써, 홈에 나노입자를 균일하게 충진하는 기판 디핑 장치에 관한 것이다. 본 발명의 구성은 내부에 내부판(110)이 형성되며, 상기 내부판(110) 상에 받침판(120)이 구비되는 몸체(100); 수용액(210)이 내부에 수용되고, 상기 받침판(120) 상에 구비되는 도가니(200); 상기 몸체(100)의 내부에 구비되며, 상기 도가니(200)와 연결되어, 상기 도가니(200)를 상기 몸체(100)의 좌우방향 또는 상하방으로 이동시키도록 형성되는 도가니 구동부(300); 하단에 기판(410)이 고정되도록 형성되는 지지대(400); 상기 몸체(100)의 상부 일측에 구비되며, 상기 지지대(400)와 연결되어, 상기 지지대(400)를 상기 지지대(400)의 길이방향으로 구동시키거나, 상기 몸체(100)의 상하방향으로 회전시키도록 형성되는 지지대 구동부(500); 및 상기 도가니 구동부(300) 및 지지대 구동부(500)와 연결되어, 상기 도가니 구동부(300) 및 지지대 구동부(500)의 구동을 제어하는 제어부;로 이루어진다. |
