Tray apparatus for processing substrate and method using the same

摘要

본 발명은 트레이, 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법에 관한 것으로, 내부에 공간이 형성되는 트레이 내부에 기판을 장착하는 과정과; 상기 챔버 내부에 구비되는 이송부를 통해 상기 트레이를 상기 챔버 내부로 인입하는 과정과; 상기 트레이에 기판 처리 가스 공급을 위한 제1노즐과, 상기 트레이 내에 공급되는 기판 처리 가스를 배출시키기 위한 제2노즐을 연결하는 과정과; 상기 제1노즐을 통해 상기 트레이 내에 기판 처리 가스를 공급하고 상기 제2노즐을 통해 기판 처리 가스를 배출시키면서 상기 기판을 처리하는 과정;을 포함하고, 기판에 형성되는 박막의 균일도 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.