一种聚合物纳米柱阵列的无模板制备方法

摘要

本发明涉及一种聚合物纳米柱阵列的无模板制备方法，根据本发明的方法，提供一种聚合物，所述聚合物具有相应的表面；在所述聚合物的所述表面上沉积未形成连续膜状态的金属层，通过所述沉积形成所述聚合物的被所述金属层覆盖的暂时保护区，以及未被所述金属层覆盖的暴露区；对沉积有所述金属层的聚合物的表面进行蚀刻，使得未被所述金属层覆盖的暴露区被蚀刻，而被所述金属层覆盖的所述暂时保护区未被蚀刻，由此形成聚合物的纳米柱阵列。本发明的实现了一种聚合物纳米阵列高度可控，又能够快速成型、适用性广、成本较低且大面积的制备垂直纳米线阵列的方法。

主权项

一种聚合物纳米柱阵列的无模板制备方法，所述方法包括：提供一种聚合物，所述聚合物具有相应的表面；在所述聚合物的所述表面上沉积未形成连续膜状态的金属层，通过所述沉积来形成所述聚合物的被所述金属层覆盖的暂时保护区，以及未被所述金属层覆盖的暴露区；对沉积有所述金属层的聚合物的表面进行蚀刻，使得未被所述金属层覆盖的暴露区被蚀刻，而被所述金属层覆盖的所述暂时保护区未被蚀刻，或者使得被所述金属层覆盖的所述暂时保护区的蚀刻速率更慢，由此形成聚合物的纳米柱阵列。