发明名称 |
高精度多台阶微透镜阵列的制作方法 |
摘要 |
本发明涉及一种高精度多台阶微透镜阵列的制作方法,该方法首先在基底上等间隔制作出初始深度的台阶;然后再在各初始深度的台阶上、以及各台阶之间的间隔上,进行刻蚀,形成设定深度的台阶,本方法不但对操作者和操作设备的制作精度要求相对较低,成品率较高,而且可以省去大量的刻蚀时间,具有较大的经济效益。 |
申请公布号 |
CN104237984B |
申请公布日期 |
2016.11.16 |
申请号 |
CN201410519408.X |
申请日期 |
2014.09.30 |
申请人 |
中国空空导弹研究院 |
发明人 |
侯治锦;司俊杰;陈洪许;吕衍秋;王巍;韩德宽 |
分类号 |
G02B3/00(2006.01)I;G02B27/44(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02B3/00(2006.01)I |
代理机构 |
郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 |
代理人 |
胡泳棋 |
主权项 |
一种高精度多台阶微透镜阵列的制作方法,其特征在于,首先在基底上等间隔制作出初始深度的台阶;然后再在各初始深度的台阶上、以及各台阶之间的间隔上,进行刻蚀,形成设定深度的台阶;微透镜的所有台阶深度为d1、d2、d3、……、dn;该方法的步骤如下:1),在基底上制作出间隔设置的第一组台阶:a),在基底上刻蚀出一系列间隔设置、深度为d1的台阶;b),保护达到设定深度为d1的台阶,对其余的台阶进行进一步刻蚀,形成深度为d3的台阶;c),保护达到设定深度为d3的台阶,对其余的台阶进行进一步刻蚀,依次类推,直至刻蚀出第一组所有的台阶d1、d3、d5、……、dn;2),在第一组台阶之间制作出第二组台阶:d),保护刻蚀好的第一组台阶;在第一组台阶之间刻蚀出一系列深度为d2的台阶;e),保护达到设定深度为d2的台阶,对其余的台阶进行进一步刻蚀,形成深度为d4的台阶;f),保护达到设定深度为d4的台阶,对其余的台阶进行进一步刻蚀,依次类推,直至刻蚀出第一组所有的台阶d2、d4、d6、……、dn‑1。 |
地址 |
471009 河南省洛阳市解放路166号 |