发明名称 Plasma module and atomic layer deposition apparatus of having it and a atomic layer deposition method using the same
摘要 본 발명은 플라즈마 모듈 및 이를 포함하는 원자층 증착 장치 및 이를 이용한 원자층 증착 방법에 관한 것으로서, 기판을 지지하며 기판을 선형 이동 가능하게 하는 기판 지지부, 기판의 이동방향과 교차하는 방향으로 기판을 가로지르도록 배치되며, 기판으로 소스물질을 분사하는 선형의 소스모듈, 소스모듈과 나란히 배치되며, 기판에 반응물질을 분사하는 선형의 플라즈마 모듈을 포함하며, 플라즈마 모듈은 플라즈마 발생공간과 기판 사이에 배치되며, 적어도 일부 영역에 관통 형성되는 개방부를 포함하는 플라즈마 안정화판을 포함함으로써, 기판으로 배출되는 플라즈마 반응가스를 용이하게 제어할 수 있다. 즉, 플라즈마 발생가스가 플라즈마가 발생된 공간과 기판 사이에 배치된 플라즈마 안정화판에 형성된 개방부를 통해 배출되도록 함으로써, 플라즈마로부터 발생하는 이온 에너지 및 라디칼의 공급량이 용이하게 조절되어 공정의 생산성 및 효율성을 증가시킬 수 있다. 그리고, 서로 상이한 원료로 분사하는 선형 모듈들과 대응되는 구간을 기판이 통과하도록 하여 단일 챔버 내에서 상이한 원료층을 간단하게 증착할 수 있다. 이에, 서로 독립된 공간에서 형성하기 위해 장치가 증대되는 문제를 해결할 수 있다.
申请公布号 KR20160131442(A) 申请公布日期 2016.11.16
申请号 KR20150063840 申请日期 2015.05.07
申请人 AP SYSTEMS INC. 发明人 KIM, SUNG RYUL;LEE, JAE SEUNG
分类号 H01L21/02;H01L21/205;H01L21/314;H05H1/46 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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