| 发明名称 | 用于制备立体选择性环氧酮化合物的方法 | ||
| 摘要 | 提供了一种用于制备立体选择性环氧酮化合物的新方法。一种用于制备由通式(1)表示的环氧酮化合物的方法，如下面的示意图所示，其中能以高产率和高选择性获得环氧酮衍生物，并提供工业上可用的制备方法以及提供它们的中间体。其中R<sup>1</sup>是氢原子,直链、支化或环状烷基基团,可具有取代基的芳香族基团,或可具有取代基的杂环基团,R<sup>2</sup>是用于氨基的保护性基团。R是氢原子或C<sub>1‑10</sub>烷基基团,且多个R可以相同或不同,前提是至少一个R是C<sub>1‑10</sub>烷基基团。<img file="DDA0000643602200000011.GIF" wi="1667" he="689" /> | ||
| 申请公布号 | CN104411682B | 申请公布日期 | 2016.11.16 |
| 申请号 | CN201380033893.3 | 申请日期 | 2013.06.27 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 西野幸宏;涌井和也;村濑翔太;境芳郁 |
| 分类号 | C07C269/06(2006.01)I;C07C271/16(2006.01)I;C07D301/00(2006.01)I | 主分类号 | C07C269/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 郭辉 |
| 主权项 | 一种用于制备由通式(3)表示的醇化合物的方法：<img file="FDA0001084452160000011.GIF" wi="478" he="459" />其中R<sup>1</sup>是氢原子,直链、支化或环状烷基基团,可具有取代基的芳香族基团,或可具有取代基的杂环基团,R<sup>2</sup>是用于氨基的保护性基团,所述方法包括在t‑丁胺‑硼烷络合物、二‑i‑丙胺‑硼烷络合物或二‑c‑己胺‑硼烷络合物的存在下，还原由通式(2)表示的化合物：<img file="FDA0001084452160000012.GIF" wi="437" he="419" />其中R<sup>1</sup>和R<sup>2</sup>如上所定义。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||