| 发明名称 | 应力中断式附着体义齿 | ||
| 摘要 | 本发明属于口腔治疗义齿领域，具体公开了一种应力中断式附着体义齿，包括安装有人工齿的基托，所述基托上设有用于和基牙连接的应力中断式附着体；所述应力中断式附着体包括均是由Vitallium 2000 plus钴铬钼合金制成的附着体阳性件和附着体阴性件；所述附着体阴性件的尾端设有主连接孔，所述附着体阳性件的前端部设有用于挤压附着体阴性件中部的压头，所述附着体阳性件上设有与主连接孔配合的主连接头，所述主连接头与主连接孔的缓冲间隙为0.3~0.5mm，压头与附着体阴性件接触处的摩擦系数为0.25~0.35。本方案的附着体义齿安装在基牙上后，咀嚼食物产生的咬合力垂直作用在附着体阴性件上，克服了与义齿连接的基牙因咬合力导致基牙脱落的难题。 | ||
| 申请公布号 | CN106109038A | 申请公布日期 | 2016.11.16 |
| 申请号 | CN201610593432.7 | 申请日期 | 2016.07.26 |
| 申请人 | 中国人民解放军第三军医大学第一附属医院 | 发明人 | 熊宇;周继祥;谭力芯 |
| 分类号 | A61C13/08(2006.01)I;A61C13/01(2006.01)I | 主分类号 | A61C13/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 | 代理人 | 王明书 |
| 主权项 | 应力中断式附着体义齿，包括安装有人工齿的基托，其特征在于，所述基托上设有用于和基牙连接的应力中断式附着体；所述应力中断式附着体包括均是由Vitallium 2000 plus钴铬钼合金制成的附着体阳性件和附着体阴性件；所述附着体阴性件的尾端设有主连接孔，所述附着体阳性件的前端部设有用于挤压附着体阴性件中部的压头，所述附着体阳性件上设有与主连接孔配合的主连接头，所述主连接头与主连接孔的缓冲间隙为0.3~0.5mm，压头与附着体阴性件接触处的摩擦系数为0.25~0.35。 | ||
| 地址 | 400038 重庆市沙坪坝区高滩岩正街30号 | ||