发明名称 一种用于光生阴极保护的NiSe<sub>2</sub>/TiO<sub>2</sub>复合纳米管阵列膜及其制备和应用
摘要 本发明涉及一种复合纳米管光阳极,尤其是涉及一种用于光生阴极保护的NiSe<sub>2</sub>/TiO<sub>2</sub>复合纳米管阵列膜及其制备和应用。复合纳米管阵列膜的平均管径为60‑70纳米,管厚为1.7‑2微米;其中,NiSe<sub>2</sub>颗粒通过循环伏安电沉积的方法被修饰在TiO<sub>2</sub>基体纳米管管口周围。本发明材料与304不锈钢藕连可明显降低其腐蚀电位,具有实验操作简单易行,产品安全可靠、光电转换效率高、性能稳定的特点。
申请公布号 CN106119858A 申请公布日期 2016.11.16
申请号 CN201610709737.X 申请日期 2016.08.23
申请人 中国科学院海洋研究所 发明人 王秀通;韦秦怡;张巧霞;李红;李鑫冉;侯保荣
分类号 C23F13/08(2006.01)I;C25D9/04(2006.01)I;C25D11/26(2006.01)I 主分类号 C23F13/08(2006.01)I
代理机构 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人 李颖;周秀梅
主权项 一种用于光生阴极保护的NiSe<sub>2</sub>/TiO<sub>2</sub>复合纳米管阵列膜,其特征在于:复合纳米管阵列膜的平均管径为60‑70纳米,管厚为1.7‑2微米;其中,NiSe<sub>2</sub>颗粒通过循环伏安电沉积的方法被修饰在TiO<sub>2</sub>基体纳米管管口周围。
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