发明名称 半导体结构、半导体组件及功率半导体器件
摘要 本发明提供一种半导体结构、半导体组件及功率半导体器件,半导体结构包括:P型半导体材料层;N型半导体材料层,与所述P型半导体材料层相邻接,与所述P型半导体材料层共同形成PN结;多层绝缘材料层,位于所述PN结的外侧,且沿所述P型半导体材料层与所述N型半导体材料层叠置的方向分布,相邻所述绝缘材料层的相对介电常数不同。本发明的半导体结构显著优化了器件耐压时的电场分布,大幅提高了器件的击穿电压;避免了结边缘电场集中效应而导致的器件耐压下降,防止了器件提前击穿;本发明避免使用场环和金属场板结构,从而减小了芯片面积,降低了器件的成本,提高了器件的可靠性。
申请公布号 CN106129107A 申请公布日期 2016.11.16
申请号 CN201610522196.X 申请日期 2016.07.01
申请人 电子科技大学;重庆平伟实业股份有限公司 发明人 杜江锋;李振超;刘东;白智元;于奇;李述洲
分类号 H01L29/06(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I 主分类号 H01L29/06(2006.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 余明伟
主权项 一种半导体结构,其特征在于,所述半导体结构包括:P型半导体材料层;N型半导体材料层,与所述P型半导体材料层相邻接,与所述P型半导体材料层共同形成PN结;多层绝缘材料层,位于所述PN结的外侧,且沿所述P型半导体材料层与所述N型半导体材料层叠置的方向分布,相邻所述绝缘材料层的相对介电常数不同。
地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号