본 발명의 일 실시예에 의하면, 비정질 박막을 형성하는 방법은, 하지에 아미노실란계 가스를 흘려 상기 하지 표면에 시드층을 형성하는 공정; 상기 시드층에 보론계 가스를 포함하는 제1 소스가스를 공급하여 보론이 도핑된 제1 비정질 박막을 형성하는 공정; 그리고 상기 제1 비정질 박막에 보론계 가스를 포함하는 제2 소스가스를 공급하여 보론이 도핑된 제2 비정질 박막을 형성하는 공정을 포함한다.
申请公布号
KR20160131793(A)
申请公布日期
2016.11.16
申请号
KR20150064857
申请日期
2015.05.08
申请人
EUGENE TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人
SHIN, SEUNG WOO;YOO, CHA YOUNG;JUNG, WOO DUCK;CHOI, HO MIN;OH, WAN SUK;LEE, KOON WOO;GWON, HYUK LYONG;KIM, KI HO
