光致抗蚀剂用剥离液、剥离液循环系统和运转方法以及剥离液的循环方法

摘要

本发明提供一种使用光致抗蚀剂的剥离液的剥离液循环系统；在湿法蚀刻大面积的基板上的Cu膜或Cu合金膜从而进行布线等时，该光致抗蚀剂的剥离液能够不损害Cu膜地进行剥离并且不降低与Cu膜上所沉积的层之间的粘接力。该剥离液循环系统具有：抗蚀剂剥离装置，重复使用包含含有主剂、极性溶剂和水的混合液以及抗蚀剂成分的剥离液，剥离液中的抗蚀剂浓度达到规定的值时，将剥离液的一部分从排出管排出，接受新的剥离液的供给；废液罐；蒸馏再生装置，蒸馏废液罐中的剥离液；成分检测装置，检测前述分离液中的主剂和极性溶剂的组成比率；调和装置，追加不足部分的主剂、极性溶剂和水使得分离液的主剂和极性溶剂以及水的比率达到预定的比率，调制混合液；供给罐，储存混合液。

主权项

一种光致抗蚀剂用剥离液，其包含叔烷醇胺1～9质量％、极性溶剂10～70质量％、水10～40质量％以及防腐蚀剂，所述防腐蚀剂由含量为3000ppm以下的抗蚀剂成分组成，所述叔烷醇胺为N‑甲基二乙醇胺，所述极性溶剂为二乙二醇单丁基醚和丙二醇的混合溶剂。