| 发明名称 | 蒸镀掩膜的制造方法以及显示装置的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种用于制造在蒸镀中使用的掩膜的方法，包括：形成具有多个第一开口的第一掩膜，该第一开口作为用于蒸镀材料的通孔；并且在框架上伸展第一掩膜。在第一掩膜的形成中，当设计第一开口的位置时，进行在框架上伸展第一掩膜时附加形成开口位置偏移量的这种校正。 | ||
| 申请公布号 | CN106133182A | 申请公布日期 | 2016.11.16 |
| 申请号 | CN201580015439.4 | 申请日期 | 2015.03.06 |
| 申请人 | 索尼公司 | 发明人 | 石川博一;冲田昌海;堺健太郎;西塔明 |
| 分类号 | C23C14/04(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人 | 田喜庆;刘彬 |
| 主权项 | 一种制造蒸镀掩模的方法，所述方法包括：形成具有多个第一开口的第一掩模，所述第一开口作为蒸镀材料的通孔；并且在框架上设置所述第一掩模，同时伸展所述第一掩模，形成所述第一掩模时，在执行所述第一开口的位置设计时进行校正，所述校正考虑由于在所述框架上设置所述第一掩模的同时伸展所述第一掩模导致的开口位置偏移量。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||