| 摘要 |
EUV 리소그래피용 펠리클을 제공한다. EUV 리소그래피용 펠리클은 소광계수가 0.02 이하인 무기물을 포함하는 제1 무기물층, 상기 제1 무기물층 상에 위치하고, 카테콜계열의 작용기를 갖는 유기물을 포함하는 제1 결합층 및 상기 제1 결합층 상에 위치하고, 탄소 나노구조체를 포함하는 강도보강층을 포함할 수 있다. 이때의 제1 결합층은 상기 제1 무기물층과 상기 강도보강층의 결합력을 강화시키는 것을 특징으로 한다. 따라서, 탄소 나노구조체를 포함하는 강도보강층을 구비함으로써 펠리클막의 강도를 향상시킬 수 있다. 또한, 무기물층과 강도보강층의 사이에 유기물을 포함하는 결합층을 삽입함으로써, 무기물층과 강도보강층 사이의 결합력을 강화시킬 수 있고, 나아가 유기물층의 연성을 이용하여 무기물층의 취성을 보강해 줄 수 있다. |
