| 发明名称 | 一种电子工业用完全无卤素无VOC水基清洗剂 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种电子工业用完全无卤素无VOC水基清洗剂，其组成成分质量配比为：有机胺碱0.5～2.0％；特种无机盐0.5～1.0％；助溶杀菌剂3.0～10.0％；助溶增强剂1.5～4.0％；表面活性剂1.0～2.5％；缓蚀剂0.2～0.5％；消泡剂0.1～0.40％；去离子水余量。本发明的水基清洗剂完全无卤素无VOC符合环保要求，清洗效果和去污能力完全达到全氯氟烃类溶剂和VOC溶剂的效果，无毒无腐蚀性、不产生公害物质、使用操作方便、对环境无污染。 | ||
| 申请公布号 | CN106118926A | 申请公布日期 | 2016.11.16 |
| 申请号 | CN201610439355.X | 申请日期 | 2016.06.16 |
| 申请人 | 深圳市唯特偶新材料股份有限公司 | 发明人 | 刘竞;李维俊;郑世忠;刘芳;曹建峰;廖高兵 |
| 分类号 | C11D10/02(2006.01)I | 主分类号 | C11D10/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人 | 陈剑聪 |
| 主权项 | 一种电子工业用完全无卤素无VOC水基清洗剂，其特征在于，其组成成分质量配比为：<img file="FDA0001020058930000011.GIF" wi="765" he="911" /> | ||
| 地址 | 518116 广东省深圳市龙岗区龙岗街道同乐社区水田一路18号唯特偶工业园 | ||