发明名称 Suscepter for substrate processing device
摘要 본 발명은 공정챔버(10)와, 상기 공정챔버(10) 내에 설치되어 기판(1)이 안착되는 서셉터를 포함하는 기판처리장치의 서셉터로서, 기판(1)이 상면에 안착되는 서셉터본체(21)와; 상기 서셉터본체(21)의 하면에서 연장되어 상기 서셉터본체(21)를 지지하는 서셉터지지부(22)와; 상기 서셉터본체(21)에 설치되어 전원인가에 의하여 발열하는 하나 이상의 열선부재(25)를 포함하며, 상기 열선부재(25)는, 상기 서셉터본체(21)에 설치되는 관부재(220)와, 상기 관부재(220) 내부에 설치되어 전원인가에 의하여 발열하는 저항코일(200)과, 상기 관부재(220) 내부에 채워지는 충진재(210)를 포함하며, 상기 관부재(220)는, 하나 이상의 굽어진 부분을 포함하며, 상기 굽어진 부분은 나머지 부분보다 두껍게 형성된 것을 특징으로 하는 기판처리장치의 서셉터(20)를개시한다.
申请公布号 KR20160131989(A) 申请公布日期 2016.11.16
申请号 KR20160147593 申请日期 2016.11.07
申请人 R G B CO., LTD. 发明人 KWON, YONG CHUL
分类号 H01L21/67;C23C14/50;C23C14/54;C23C16/458;C23C16/46;H01L21/203;H01L21/205;H01L21/324;H01L21/683 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人
主权项
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