用于旋转涂布中的缺陷控制的盖板

摘要

本发明公开的技术提供一种如下的旋转涂布设备和旋转涂布方法：其抑制湍流流动导致的风痕和其他缺陷的形成，从而允许较高的旋转速度和减少的干燥时间，同时保持膜均匀性。本发明公开的技术包括定位在或悬吊在晶片或其他衬底的表面的上方的流体流动构件，如环或盖。该流体流动构件的径向曲率能够防止在晶片的涂布和旋转干燥处理期间的旋转过程中形成风痕。

主权项

一种用于涂布衬底的旋转涂布设备，所述旋转涂布设备包括：衬底保持件，所述衬底保持件构造成在旋转涂布处理期间水平地保持所述衬底；旋转机构，所述旋转机构连接至所述衬底保持件，所述旋转机构构造成使所述衬底保持件绕旋转轴线旋转；液体分配器，所述液体分配器构造成在所述衬底被设置在所述衬底保持件上时将液体材料分配至所述衬底的加工表面上，所述加工表面为平面并且与所述衬底的与所述衬底保持件接触的下表面相反；以及流体流动构件，所述流体流动构件具有面向衬底的表面，所述流体流动构件构造成当所述衬底被设置在所述衬底保持件上时所述流体流动构件被定位成使得所述面向衬底的表面被定位在所述衬底的所述加工表面的竖直上方，所述面向衬底的表面的至少一部分弯曲成使得所述面向衬底的表面与所述加工表面之间的给定的竖向距离沿径向相对于离所述旋转轴线的给定的径向距离变化。