一种去除冶金级硅中杂质的方法

摘要

本发明涉及一种去除冶金级硅中杂质的方法，属于硅提纯技术领域。首先将少量的添加剂（锆、铪、含锆合金或含铪合金）和工业硅同时进行熔炼，待物料完全熔化后冷却至室温，并研磨成小于186μm的硅粉，先后用王水、HF＋HCl混酸进行酸洗得到高纯硅。本发明不仅能有效去除硅提纯领域中最难去除的硼杂质，对其他杂质的去除也有明显的效果。

主权项

一种去除冶金级硅中杂质的方法，具体步骤如下：（1）将添加剂和工业硅同时在惰性气体氛围下进行熔炼；（2）将步骤（1）中完全熔化的硅熔体冷却至室温；（3）将步骤（2）得到的硅研磨成粉；（4）将步骤（3）得到的硅粉先后用王水、HF＋HCl混酸进行酸洗后得到高纯硅。