一种真空设备的基板加热台

摘要

一种真空设备的基板加热台。它主要是解决现有工艺繁琐、生产效率低和产品质量不稳定等技术问题。其技术方案要点是：包括加热平板（1）、加热底板（2）、加热台支柱（3）、镀膜挡板（7）、屏蔽板框（8）、电极引入件（9）、辅助加热器（10）、外圈加热器（11）、内圈加热器（12）和升降架（13），所述加热台支柱（3）上依次设有加热平板（1）和加热底板（2），加热平板（1）和加热底板（2）中间设有外圈加热器（11）和内圈加热器（12），四周设有辅助加热器（10），加热平台一侧连接有电极引入件（9），所述加热平台周围设有屏蔽板框（8）。它主要是应用于真空玻璃生产和制备。

主权项

一种真空设备的基板加热台，其特征是：它包括加热平板（1）、加热底板（2）、加热台支柱（3）、中屏蔽板（4）、屏蔽板支柱（5）、镀膜挡板（7）、屏蔽板框（8）、电极引入件（9）、辅助加热器（10）、外圈加热器（11）、内圈加热器（12）和升降架（13），所述加热台支柱（3）、屏蔽板支柱（5）和屏蔽板框（8）安装在真空设备的腔室（14）上，所述屏蔽板支柱（5）高度小于加热台支柱（3），且设有中屏蔽板（4）；所述加热台支柱（3）上依次设有加热平板（1）和加热底板（2），加热平板（1）和加热底板（2）中间设有外圈加热器（11）和内圈加热器（12），四周设有辅助加热器（10），形成一个加热平台，加热平台一侧连接有电极引入件（9），所述加热平台周围设有屏蔽板框（8），屏蔽板框（8）上设有镀膜挡板（7）。