发明名称 一种含有铋和卤素的半导体材料及其制备与分析方法
摘要 本发明提供了一种含有铋和卤素的半导体材料及其制备与分析方法。所述的含有铋和卤素的半导体材料,其特征在于,其化学式为Cs<sub>3</sub>Bi<sub>2</sub>Br<sub>x</sub>I<sub>9‑x</sub>,其中,x=1‑6.85。本发明的通式为Cs<sub>3</sub>Bi<sub>2</sub>Br<sub>x</sub>I<sub>9‑x</sub>的半导体材料,具有可调节的直接带隙能,在本发明的实施例中最小可调节至1.99eV,低于现有材料Cs<sub>3</sub>Bi<sub>2</sub>Br<sub>9</sub>或Cs<sub>3</sub>Bi<sub>2</sub>I<sub>9</sub>的带隙能,能够吸收可见光谱中更宽的波长范围。
申请公布号 CN106082329A 申请公布日期 2016.11.09
申请号 CN201610407141.4 申请日期 2016.06.12
申请人 上海科技大学 发明人 米启兮;汪瑶
分类号 C01G29/00(2006.01)I;G01N31/16(2006.01)I 主分类号 C01G29/00(2006.01)I
代理机构 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人 翁若莹;王婧
主权项 一种含有铋和卤素的半导体材料,其特征在于,其化学式为Cs<sub>3</sub>Bi<sub>2</sub>Br<sub>x</sub>I<sub>9‑x</sub>,其中,x=1‑6.85。
地址 201210 上海市浦东新区海科路100号