发明名称 |
一种含有铋和卤素的半导体材料及其制备与分析方法 |
摘要 |
本发明提供了一种含有铋和卤素的半导体材料及其制备与分析方法。所述的含有铋和卤素的半导体材料,其特征在于,其化学式为Cs<sub>3</sub>Bi<sub>2</sub>Br<sub>x</sub>I<sub>9‑x</sub>,其中,x=1‑6.85。本发明的通式为Cs<sub>3</sub>Bi<sub>2</sub>Br<sub>x</sub>I<sub>9‑x</sub>的半导体材料,具有可调节的直接带隙能,在本发明的实施例中最小可调节至1.99eV,低于现有材料Cs<sub>3</sub>Bi<sub>2</sub>Br<sub>9</sub>或Cs<sub>3</sub>Bi<sub>2</sub>I<sub>9</sub>的带隙能,能够吸收可见光谱中更宽的波长范围。 |
申请公布号 |
CN106082329A |
申请公布日期 |
2016.11.09 |
申请号 |
CN201610407141.4 |
申请日期 |
2016.06.12 |
申请人 |
上海科技大学 |
发明人 |
米启兮;汪瑶 |
分类号 |
C01G29/00(2006.01)I;G01N31/16(2006.01)I |
主分类号 |
C01G29/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海申汇专利代理有限公司 31001 |
代理人 |
翁若莹;王婧 |
主权项 |
一种含有铋和卤素的半导体材料,其特征在于,其化学式为Cs<sub>3</sub>Bi<sub>2</sub>Br<sub>x</sub>I<sub>9‑x</sub>,其中,x=1‑6.85。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区海科路100号 |