发明名称 |
一种单层釉面窑变砖 |
摘要 |
一种单层釉面窑变砖,涉及建筑陶瓷领域,该产品由坯体层与单层釉面层二层结构组成,坯体层厚度为6‑8mm,单层釉面层为包含有金属氧化物着色剂且其厚度为0.5—0.9mm,坯体层与单层釉面层通过梭式电窑烧制而紧密连接在一起,通过窑变釉反应,在单层釉面层内自然生成颜色一致、但花纹各不相同的釉面晶花图案。该产品将底釉、面釉二合为一成为单层釉面,既简化施釉工艺,又避免底釉、面釉两者厚薄不一而产生色差,能适应建筑装饰大面积铺贴,具有产品合格率高、适应于规模化生产、节能降耗、便于施工切割等优点,且由于釉面花纹自然生成且各不相同,给人一种律动与自然质感,满足了现代人们崇尚自然的审美要求。 |
申请公布号 |
CN205677186U |
申请公布日期 |
2016.11.09 |
申请号 |
CN201620309190.X |
申请日期 |
2016.04.14 |
申请人 |
江西赣鑫工艺陶瓷有限公司 |
发明人 |
徐明光;曾小勇;罗青;彭平香;周根生 |
分类号 |
E04F13/14(2006.01)I;C04B41/86(2006.01)I |
主分类号 |
E04F13/14(2006.01)I |
代理机构 |
南昌佳诚专利事务所 36117 |
代理人 |
张文宣;闵蓉 |
主权项 |
一种单层釉面窑变砖,由坯体层与单层釉面层二层结构组成,其特征在于:所述坯体层其厚度为6‑8mm,所述单层釉面层包含有金属氧化物着色剂且其厚度为0.5—0.9mm,坯体层与单层釉面层通过梭式电窑烧制而紧密连接在一起,通过烧制在单层釉面层内自然生成釉面晶花图案。 |
地址 |
330046 江西省新余市新干县金川北大道113号 |