发明名称 |
氧化物半导体评价装置和该方法 |
摘要 |
在本发明的氧化物半导体评价装置和该方法中,对于评价对象的氧化物半导体,照射规定波长的光和规定的测量波,测量由所述氧化物半导体反射的所述测量波的反射波。另外,测量所述氧化物半导体的厚度。然后,基于该测量到的所述氧化物半导体的厚度,校正所述反射波的强度。因此,氧化物半导体评价装置和该方法,通过进一步考虑所述氧化物半导体的厚度而评价所述氧化物半导体的迁移率,因此能够更高精度地评价所述氧化物半导体的迁移率。 |
申请公布号 |
CN106104781A |
申请公布日期 |
2016.11.09 |
申请号 |
CN201580013083.0 |
申请日期 |
2015.03.23 |
申请人 |
株式会社神户制钢所 |
发明人 |
乾昌广 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I;G01N22/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
张玉玲 |
主权项 |
一种氧化物半导体评价装置,其特征在于,具备如下:将规定波长的光照射到评价对象的氧化物半导体上的光照射部;向所述氧化物半导体照射规定的测量波的测量波照射部;测量由所述氧化物半导体反射的所述测量波的反射波的反射波测量部;测量沿着所述光照射部所照射的光的行进方向这一方向上的所述氧化物半导体的厚度的厚度测量部;基于由所述厚度测量部测量出的所述氧化物半导体的厚度,校正由所述反射波测量部测量出的所述反射波的强度的处理部。 |
地址 |
日本兵库县 |