一种改善石英晶体片表面粗糙度的方法

摘要

本发明提出的是一种改善石英晶体片表面粗糙度的方法,包括如下步骤:1)先用质量浓度为30%氟化氢铵（NH₄HF₂）溶液和质量浓度为15%氢氟酸（HF）溶液的混合溶液腐蚀石英晶体片;2)用纯水清洗石英晶体片;3)再用质量浓度为26%氢氟酸溶液腐蚀石英晶体片；4)腐蚀石英晶体片时腐蚀液温度为36℃；若石英晶体片总体需要腐蚀去掉的厚度为t，则氟化氢铵和氢氟酸混合溶液腐蚀去掉的厚度为t*1/3,氢氟酸溶液腐蚀去掉的厚度为t*2/3。优点：用两种腐蚀溶液腐蚀石英晶体片表面，解决了以往改善石英晶体片表面粗糙度必须研磨抛光的做法。设备投资少、操作简便、生产效率高、加工成本低、产品品质容易控制。

主权项

一种改善石英晶体片表面粗糙度的方法,其特征是该方法包括如下步骤:1)先用质量浓度为30%氟化氢铵和质量浓度为15%氢氟酸的混合溶液腐蚀石英晶体片;2)用纯水清洗石英晶体片;3)再用质量浓度为26%氢氟酸溶液腐蚀石英晶体片；4)腐蚀石英晶体片时腐蚀液温度为36℃；若石英晶体片总体需要腐蚀去掉的厚度为t，则氟化氢铵和氢氟酸混合溶液腐蚀去掉的厚度为t*1/3, 氢氟酸溶液腐蚀去掉的厚度为t*2/3。