发明名称 SEMICONDUCTOR DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURING THE SAME
摘要 반도체 장치는 기판 상에 제2 방향으로 연장된 게이트 구조물, 제2 방향과 교차하는 제1 방향으로 게이트 구조물에 인접한 기판의 부분 상에 형성된 소스/드레인 층, 게이트 구조물 상에 형성된 제1 도전성 콘택 플러그, 및 소스/드레인 층 상에 형성되며, 제2 방향을 따라 배치되어 서로 접촉하는 제2 도전성 콘택 플러그 및 절연막 패턴을 갖는 제2 콘택 플러그 구조물을 포함한다. 제1 도전성 콘택 플러그와 절연막 패턴은 제1 방향으로 서로 인접하되, 제1 및 제2 도전성 콘택 플러그들은 서로 이격된다.
申请公布号 KR20160129372(A) 申请公布日期 2016.11.09
申请号 KR20150061423 申请日期 2015.04.30
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KIM, YOON HAE;RHEE, HWA SUNG;CHO, KEUN HWI
分类号 H01L29/78;H01L21/3205 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
地址