| 发明名称 | 用于光敏层的图案化曝光的曝光设备和方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种曝光设备(5)，包含:基板(6)，具有光敏层(1);发生装置(7)，产生具有曝光波长(λ<sub>B</sub>)的多个曝光光线(3)，其中，各个曝光光线(3)分配给所述光敏层(1)的部分区域，所述发生装置(7)设计为产生具有大于用于使所述光敏层(1)从第二状态转变为第一状态的强度阈值(I<sub>S</sub>)的最大强度(I<sub>MAX</sub>)的曝光光线(3);移动装置(13)，使所述曝光光线(3)相对于各自分配的部分区域移动;以及激发光源(31)，产生具有激发波长(λ<sub>A</sub>)的激发辐射(32)，使所述光敏层(1)从所述第一状态(A)转变为所述第二状态(B)。本发明还涉及关联的曝光方法。 | ||
| 申请公布号 | CN103890565B | 申请公布日期 | 2016.11.09 |
| 申请号 | CN201280050997.0 | 申请日期 | 2012.08.15 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | D.菲奥尔卡;J.拜耳;M.托泽克 |
| 分类号 | G01N21/64(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G01N21/64(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 曝光设备，包含：基板，具有光敏层；发生装置，产生具有曝光波长的多个曝光光线，其中，各个曝光光线分配给所述光敏层的部分区域，所述发生装置设计为产生具有大于用于使所述光敏层从第二状态转变为第一状态的强度阈值的最大强度的曝光光线；移动装置，使所述曝光光线相对于各自分配的部分区域移动；以及激发光源，产生具有激发波长的激发辐射，用于使所述光敏层从所述第一状态转变为所述第二状态；其中，所述发生装置具有光栅布置，所述光栅布置具有多个可开关光栅元件，设计为以依赖于在所述光敏层上要制造的结构的方式接通或关断相应曝光光线。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||