发明名称 用于通过真空蒸发沉积薄膜的装置的喷射系统
摘要 本发明涉及一种用于通过真空蒸发沉积薄层的装置的喷射系统,所述喷射系统包括用于接纳待蒸发材料源的容器、用于加热所述容器从而能蒸发所述材料的装置、至少一个喷射架,所述喷射架包括与所述容器链接以接纳来自所述容器的所述蒸发材料的内导管和多个喷嘴,各喷嘴包括位于所述内导管和所述架外部之间的连通通道从而将所述蒸发材料注入所述真空蒸发室中。根据本发明,所述喷射架包括多个沿纵向彼此机械串联连接的喷射模块,各喷射模块包括多个喷嘴,且所述喷射架包括用于调节所述喷射模块围绕所述纵向的定向以使所述喷嘴沿与所述喷射架的纵向平行的线对准的装置。
申请公布号 CN103906856B 申请公布日期 2016.11.09
申请号 CN201280051570.2 申请日期 2012.10.18
申请人 瑞必尔 发明人 J-L·居约克斯;J·维莱特;N·布莱恩特;D·埃斯特韦
分类号 C23C14/24(2006.01)I;C23C14/26(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 肖威;刘金辉
主权项 一种用于通过真空蒸发在基材(10)上沉积薄层的设备的喷射系统,其中意欲将所述喷射系统置于真空蒸发室中,且所述喷射系统包括:‑用于接纳待蒸发材料的容器(4);‑适于蒸发所述材料的容器加热装置;‑至少一个喷射架(1),其包括与容器(4)连接以接纳来自容器(4)的蒸发的所述材料的内导管和多个喷嘴(3),其中各喷嘴(3)包括至少一个位于所述内导管和所述架外部之间的连通通道以使所述蒸发的材料扩散至所述真空蒸发室中,以允许蒸发材料向基材(10)扩散;其特征在于:‑喷射架(1)包括多个沿纵向(5)彼此机械串联连接的喷射模块(2a,2b,2c,2d,2e),所述多个喷射模块(2a、2b、2c、2d、2e)中的每个通过所述内导管与一个或至多两个相邻喷射模块串联连通,所述容器(4)与喷射架第一末端的所述喷射模块中的第一喷射模块(2a)机械连接,并且所述第一喷射模块通过所述内导管与所述容器(4)连通,各喷射模块(2a,2b,2c,2d,2e)包括多个喷嘴(3),其中所述喷射架的喷嘴以相继喷嘴之间的恒定间距分布,从而获得喷嘴(3)沿与纵向(5)平行的轴在空间上均匀分布,且‑所述喷射架(1)包括用于调节所述喷射模块(2a,2b,2c,2d,2e)围绕所述纵向(5)的方向以使所述喷射模块(2a,2b,2c,2d,2e)的所述喷嘴(3)沿与喷射架(1)的纵向(5)平行的线对准,同时确保喷射模块相对于真空蒸发室的紧密固定的装置。
地址 法国贝松