发明名称 光致抗蚀剂组合物和方法
摘要 本发明提供新型光致抗蚀剂,其适用于多种应用,包括负色调显影方法。优选抗蚀剂包含第一聚合物,其包含(i)第一单元,其包含有包含酸不稳定基团之含氮部分;以及(ii)第二单元,其(1)包含一或多个疏水性基团,和(2)与第一单元不同。
申请公布号 CN106094431A 申请公布日期 2016.11.09
申请号 CN201610246711.6 申请日期 2016.04.20
申请人 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 发明人 E-H·柳;M-K·蒋;C-Y·洪;D-Y·金;D-J·洪;H-J·林;M-Y·金;H·全
分类号 G03F7/004(2006.01)I 主分类号 G03F7/004(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 陈哲锋;胡嘉倩
主权项 一种光致抗蚀剂组合物,其包含:(a)第一聚合物,其包含:(i)第一单元,其包含含氮部分,所述含氮部分包含酸不稳定基团;(ii)第二单元,其(1)包含一或多个疏水性基团并且(2)与所述第一单元不同;(b)一或多种酸产生剂。
地址 韩国忠清南道