发明名称 反熔丝结构、反熔丝存储器及其制作方法
摘要 本申请提供了一种反熔丝结构、反熔丝存储器及其制作方法,采用至少一层高介电常数K介质层作为反熔丝层,仅需薄薄的一层即可起到反熔丝结构中的绝缘作用,当所述反熔丝层被预设电压击穿后,比现有的反熔丝结构的电阻低,从而使本发明的存储器在编程后的整体电阻低,降低了应用此存储器的电路的耗。或者,在反熔丝结构中,通过在通孔内构成反熔丝层,使得反熔丝层限制于通孔内,当所述反熔丝层被预设电压击穿后,具有比现有的反熔丝结构更低的电阻,从而使本发明的反熔丝结构的整体电阻低,降低了电路的功耗。
申请公布号 CN106098691A 申请公布日期 2016.11.09
申请号 CN201610490086.X 申请日期 2016.06.24
申请人 珠海创飞芯科技有限公司 发明人 李立;王志刚
分类号 H01L27/112(2006.01)I;H01L21/8246(2006.01)I;H01L27/115(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I 主分类号 H01L27/112(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 王宝筠
主权项 一种反熔丝存储器,其特征在于,包括:相对设置的两个金属电极层,所述金属电极层间设置有反熔丝层,所述反熔丝层与所述两个金属电极层电连接,所述反熔丝层包括至少一层高介电常数K介质层。
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