发明名称 |
反熔丝结构、反熔丝存储器及其制作方法 |
摘要 |
本申请提供了一种反熔丝结构、反熔丝存储器及其制作方法,采用至少一层高介电常数K介质层作为反熔丝层,仅需薄薄的一层即可起到反熔丝结构中的绝缘作用,当所述反熔丝层被预设电压击穿后,比现有的反熔丝结构的电阻低,从而使本发明的存储器在编程后的整体电阻低,降低了应用此存储器的电路的耗。或者,在反熔丝结构中,通过在通孔内构成反熔丝层,使得反熔丝层限制于通孔内,当所述反熔丝层被预设电压击穿后,具有比现有的反熔丝结构更低的电阻,从而使本发明的反熔丝结构的整体电阻低,降低了电路的功耗。 |
申请公布号 |
CN106098691A |
申请公布日期 |
2016.11.09 |
申请号 |
CN201610490086.X |
申请日期 |
2016.06.24 |
申请人 |
珠海创飞芯科技有限公司 |
发明人 |
李立;王志刚 |
分类号 |
H01L27/112(2006.01)I;H01L21/8246(2006.01)I;H01L27/115(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/112(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
王宝筠 |
主权项 |
一种反熔丝存储器,其特征在于,包括:相对设置的两个金属电极层,所述金属电极层间设置有反熔丝层,所述反熔丝层与所述两个金属电极层电连接,所述反熔丝层包括至少一层高介电常数K介质层。 |
地址 |
519000 广东省珠海市唐家湾镇大学路101号清华科技园(珠海)创业大楼A座A906 |