发明名称 |
基板处理系统以及管道清洗方法 |
摘要 |
基板处理系统由清洗单元、多个处理液供给单元以及基板处理装置构成。清洗单元在对管道进行清洗时向处理液供给单元的处理单元供给第一清洗液。在将从清洗单元供给的第一清洗液贮存于处理液槽内后,处理液供给单元将处理液槽内的第一清洗液通过管道供给至基板处理装置的处理单元。清洗单元以与利用第一清洗液清洗管道并行的方式准备第二清洗液,并将准备的第二清洗液供给至处理液槽。 |
申请公布号 |
CN106104762A |
申请公布日期 |
2016.11.09 |
申请号 |
CN201580012432.7 |
申请日期 |
2015.02.26 |
申请人 |
株式会社斯库林集团 |
发明人 |
樋口鲇美;藤田惠理;吉田祥司;野村真志 |
分类号 |
H01L21/304(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I;B08B9/032(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/304(2006.01)I |
代理机构 |
隆天知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
向勇 |
主权项 |
一种基板处理系统,其中,具有:基板处理装置,其对基板进行处理,处理液供给单元,其通过管道向所述基板处理装置供给处理液,清洗单元;所述处理液供给单元包括在对基板进行处理时贮存所述处理液的处理液槽,所述基板处理装置包括在对基板进行处理时向基板供给所述处理液的处理单元,所述处理液槽与所述处理单元通过所述管道连接,所述清洗单元构成为,在对所述管道进行清洗时,在将第一清洗液供给至所述处理液供给单元的所述处理液槽后,准备第二清洗液,并将已准备的所述第二清洗液供给至所述处理液槽,所述处理液供给单元构成为,在对所述管道进行清洗时,在将从所述清洗单元供给的所述第一清洗液贮存于所述处理液槽后,将所述处理液槽内的所述第一清洗液通过所述管道供给至所述处理单元,由此清洗所述管道,在将从所述清洗单元供给的所述第二清洗液贮存于所述处理液槽后,将所述处理液槽内的所述第二清洗液通过所述管道供给至所述处理单元,由此清洗所述管道,所述清洗单元以与利用所述第一清洗液对所述管道的清洗并行的方式来准备所述第二清洗液。 |
地址 |
日本国京都府京都市 |