Chemical mechanical polishing apparatus having pad conditioning disk and pre-conditioner unit

摘要

본 발명은 패드 컨디셔닝 디스크, 프리 컨디셔너 유닛, 이를 포함하는 CMP 장치들이 설명된다. 본 발명의 일 실시예에 의한 패드 컨디셔닝 디스크는, 산 타입의 팁들과, 골 타입의 홈들이 반복적으로 연결되는 베이스및 상기 팁들 및 상기 홈들의 표면들에 컨디셔닝 입자들이 증착된 절삭층을 포함한다. 상기 팁들의 표면들에 부착된 컨디셔닝 입자들의 거칠기가 상기 홈들의 표면들에 부착된 컨디셔닝 입자들의 표면 거칠기보다 작다.