发明名称 |
偏移校准方法及系统 |
摘要 |
本发明提供了一种偏移校准方法及系统,用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移,包括以下步骤:基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀;测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标;根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标,获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量;根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板。本发明提供的偏移校准方法及系统,能够校准背板的预设位置和掩膜板的开口之间的偏移量(Offset),从而可以避免混色和和不良品的出现。 |
申请公布号 |
CN106086786A |
申请公布日期 |
2016.11.09 |
申请号 |
CN201610694775.2 |
申请日期 |
2016.08.19 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
发明人 |
李宝军;金龙;张金中;黄俊杰;唐富强 |
分类号 |
C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
彭瑞欣;陈源 |
主权项 |
一种偏移校准方法,用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移,其特征在于,包括以下步骤:基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀;测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标;根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标,获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量;根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |