发明名称 |
复合薄膜封装设备 |
摘要 |
复合薄膜封装设备,包括基底存放腔、基底中转腔、掩膜对正腔、等离子体化学沉积反应腔、原子层沉积反应腔。所述基底中转腔具有一个基底传送装置和多个闸门阀,闸门阀分别与基底存放腔、掩膜对正腔、等离子体化学沉积反应腔和原子层沉积反应腔密封连接。所述基底存放腔内的存放架分为上下两层,上层为掩膜放置架,下层为基底放置架,通过控制马达实现存放架的升降移动,基底传送装置通过闸门阀可完成对基底和掩膜的取放。本发明采用单个基底传送装置,可完成基底在多个模块间的循环传递,且基底和掩膜存放在同一腔内,减少了设备的单元模块。本发明可广泛地应用于有机发光二极管薄膜封装技术领域。 |
申请公布号 |
CN106098600A |
申请公布日期 |
2016.11.09 |
申请号 |
CN201610711523.6 |
申请日期 |
2016.08.23 |
申请人 |
沈阳拓荆科技有限公司 |
发明人 |
吕光泉;刘忆军;吴凤丽;王亮 |
分类号 |
H01L21/67(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 |
代理人 |
甄玉荃 |
主权项 |
复合薄膜封装设备,其特征在于:该设备包括基底存放腔、基底中转腔、掩膜对正腔、等离子体化学沉积反应腔及原子层沉积反应腔,所述基底中转腔具有一个基底传送装置和多个闸门阀,闸门阀分别与基底存放腔、掩膜对正腔、等离子体化学沉积反应腔和原子层沉积反应腔密封连接。 |
地址 |
110179 辽宁省沈阳市浑南新区新源街1-1号三层 |