发明名称 复合薄膜封装设备
摘要 复合薄膜封装设备,包括基底存放腔、基底中转腔、掩膜对正腔、等离子体化学沉积反应腔、原子层沉积反应腔。所述基底中转腔具有一个基底传送装置和多个闸门阀,闸门阀分别与基底存放腔、掩膜对正腔、等离子体化学沉积反应腔和原子层沉积反应腔密封连接。所述基底存放腔内的存放架分为上下两层,上层为掩膜放置架,下层为基底放置架,通过控制马达实现存放架的升降移动,基底传送装置通过闸门阀可完成对基底和掩膜的取放。本发明采用单个基底传送装置,可完成基底在多个模块间的循环传递,且基底和掩膜存放在同一腔内,减少了设备的单元模块。本发明可广泛地应用于有机发光二极管薄膜封装技术领域。
申请公布号 CN106098600A 申请公布日期 2016.11.09
申请号 CN201610711523.6 申请日期 2016.08.23
申请人 沈阳拓荆科技有限公司 发明人 吕光泉;刘忆军;吴凤丽;王亮
分类号 H01L21/67(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 代理人 甄玉荃
主权项 复合薄膜封装设备,其特征在于:该设备包括基底存放腔、基底中转腔、掩膜对正腔、等离子体化学沉积反应腔及原子层沉积反应腔,所述基底中转腔具有一个基底传送装置和多个闸门阀,闸门阀分别与基底存放腔、掩膜对正腔、等离子体化学沉积反应腔和原子层沉积反应腔密封连接。
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