用于钨化学机械抛光的组合物

摘要

用于抛光具有钨层的基板的化学机械抛光组合物，其包括基于水的液体载剂、分散于该液体载剂中且具有至少6mV永久性正电荷的胶态二氧化硅研磨剂、以及在该液体载剂中呈溶液形式的多阳离子型胺化合物。用于化学机械抛光包括钨层的基板的方法，其包括：使该基板与上述抛光组合物接触，相对于该基板移动该抛光组合物，及研磨该基板以自该基板移除该钨的一部分并由此抛光该基板。

主权项

化学机械抛光组合物，其包含：基于水的液体载剂；分散于该液体载剂中的胶态二氧化硅研磨剂，该胶态二氧化硅研磨剂具有至少6mV的永久性正电荷；及在该液体载剂中呈溶液形式的多阳离子型胺化合物。