发明名称 |
一种针对YAG晶体的生长工艺 |
摘要 |
本发明公开了一种针对YAG晶体的生长工艺,包括以下步骤:步骤一、挑选无缺陷晶头,对装有YAG原料的电阻炉开始抽真空,然后向电阻炉内充入保护性气体,再升温化料;步骤二、预热晶头,备用;步骤三、待电阻炉内的YAG原料完全融化后,恒温均化3‑5h;步骤四、步骤三完成后,下降晶头与原料溶液接触并开始调温翻转,然后恒温;步骤五、步骤四完成后,开始提拉进行平界面等径生长;步骤六、待晶体生长至设定长度后停炉,提起晶体恒温保持0‑2h,然后随炉冷却至室温;步骤七、待晶体冷却至室温后,出炉取出晶体。本发明有效缩短了晶体生长周期,晶体的有效使用长度提高了约15%,有效控制了晶体位错缺陷产生,毛坯晶体为没有位错、散射等缺点的优等品。 |
申请公布号 |
CN106087056A |
申请公布日期 |
2016.11.09 |
申请号 |
CN201610626983.9 |
申请日期 |
2016.08.03 |
申请人 |
成都新源汇博光电科技有限公司 |
发明人 |
王大庆 |
分类号 |
C30B29/28(2006.01)I;C30B15/00(2006.01)I |
主分类号 |
C30B29/28(2006.01)I |
代理机构 |
成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 |
代理人 |
韩雪 |
主权项 |
一种针对YAG晶体的生长工艺,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、挑选无缺陷晶头,对装有YAG原料的电阻炉开始抽真空,然后向电阻炉内充入保护性气体,再升温化料;步骤二、预热挑选的无缺陷晶头至1800‑1850℃,备用;步骤三、待电阻炉内的YAG原料完全融化后,恒温均化3‑5h;步骤四、步骤三完成后,下降晶头与原料溶液接触并开始调温翻转,然后恒温;步骤五、步骤四完成后,开始提拉进行平界面等径生长;步骤六、待晶体生长至设定长度后停炉,提起晶体恒温保持0‑2h,然后随炉冷却至室温;步骤七、待晶体冷却至室温后,出炉取出晶体。 |
地址 |
610207 四川省成都市双流县西航港大道中段1455号 |