发明名称 转印版预处理装置及转印版预处理方法、取向膜制备系统
摘要 本发明提供一种转印版预处理装置,用于在向基板涂覆取向液之前对转印版进行预处理,所述转印版包括相对设置的第一表面和第二表面,所述第一表面上设置有阵列排布的凹槽;所述转印版预处理装置包括:辊状的版酮,用于承载所述转印版,所述版酮包括用于与所述转印版的第二表面贴合的承载面;挤压结构,所述挤压结构包括挤压面;所述版酮用于沿所述挤压结构的挤压面滚动,并且,承载有转印版的版酮在滚动过程中,所述转印版的第一表面与所述挤压面接触并相互挤压。相应地,本发明还提供一种转印版预处理方法、取向膜制备系统。本发明能够提高转印版的浸润性。
申请公布号 CN106094350A 申请公布日期 2016.11.09
申请号 CN201610653710.3 申请日期 2016.08.10
申请人 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 发明人 田维;邓玉新;郑先锋
分类号 G02F1/1337(2006.01)I 主分类号 G02F1/1337(2006.01)I
代理机构 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人 姜春咸;陈源
主权项 一种转印版预处理装置,用于在向基板涂覆取向液之前对转印版进行预处理,其特征在于,所述转印版包括相对设置的第一表面和第二表面,所述第一表面上设置有阵列排布的凹槽;所述转印版预处理装置包括:辊状的版酮,用于承载所述转印版,所述版酮包括用于与所述转印版的第二表面贴合的承载面;挤压结构,所述挤压结构包括挤压面;所述版酮用于沿所述挤压结构的挤压面滚动,并且,承载有转印版的版酮在滚动过程中,所述转印版的第一表面与所述挤压面接触并相互挤压。
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