EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY COLLECTOR CONTAMINATION REDUCTION

摘要

극자외선(EUV) 방사 소스 모듈은 타겟 액적 생성기, 제1 레이저 소스, 및 제2 레이저 소스를 포함한다. 타겟 액적 생성기는 복수의 타겟 액적들을 생성하도록 구성된다. 제1 레이저 소스는 타겟 액적들을 각각의 여기 포지션들에서 가열시켜서 복수의 타겟 플룸들을 생성하는 복수의 제1 레이저 펄스들을 생성하도록 구성된다. 타겟 액적들 중 적어도 하나는 다른 타겟 액적들의 여기 포지션과는 상이한 여기 포지션에서 가열된다. 제2 레이저 소스는 타겟 플룸들을 가열시켜서 EUV 방사선을 방출하는 플라즈마를 생성하는 복수의 제2 레이저 펄스들을 생성하도록 구성된다.