发明名称 |
载流子存储型IGBT及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种载流子存储型IGBT,包括:漂移区,P型体区,多个沟槽,各沟槽穿过P型体区进入到漂移区中;在沟槽中形成有栅介质层和多晶硅栅;在漂移区的底部表面形成有由P+区组成的空穴注入层;在漂移区和P型体区界面位置处形成有空穴存储层,空穴存储层包括交替排列的第一N+层和第二P型层,且各沟槽的侧面和空穴存储层中的第一N+层接触;空穴存储层的第一N+层用于阻挡空穴进入到P型体区中;第一N+层和第二P型层的电荷相平衡,并在器件反向偏置时第一N+层和第二P型层互相横向耗尽,用以改善电场分布并提升反向耐压。本发明还公开了一种载流子存储型IGBT的制造方法。本发明能在降低IGBT导通压降的同时改善器件的反向耐压。 |
申请公布号 |
CN106098760A |
申请公布日期 |
2016.11.09 |
申请号 |
CN201610427926.8 |
申请日期 |
2016.06.16 |
申请人 |
上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
柯行飞 |
分类号 |
H01L29/739(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/739(2006.01)I |
代理机构 |
上海浦一知识产权代理有限公司 31211 |
代理人 |
郭四华 |
主权项 |
一种载流子存储型IGBT,其特征在于,包括:漂移区,由形成于半导体衬底表面的N型轻掺杂区组成;P型体区,形成于所述漂移区表面;多个沟槽,各所述沟槽穿过所述P型体区且各所述沟槽的进入到所述漂移区中;在各所述沟槽的底部表面和侧面形成有栅介质层,在各所述沟槽中填充有多晶硅栅;被各所述多晶硅栅侧面覆盖的所述P型体区表面用于形成沟道;在所述漂移区的底部表面形成有由P+区组成的空穴注入层;在所述漂移区和所述P型体区界面位置处形成有空穴存储层,所述空穴存储层包括交替排列的第一N+层和第二P型层,且各所述沟槽的侧面和所述空穴存储层中的第一N+层接触;所述空穴存储层的第一N+层用于阻挡空穴从所述漂移区中进入到所述P型体区中;所述空穴存储层的所述第一N+层和所述第二P型层的电荷相平衡,并在器件反向偏置时所述空穴存储层的所述第一N+层和所述第二P型层互相横向耗尽,用以改善电场分布并提升反向耐压。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 |