| 发明名称 | 热处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于获得一种热处理装置(1)，该装置通过适当地进行燃尽，能够稳定地进行热处理。在热处理装置(1)内，具有加热器(13)的加热器室(7)和加热处理被处理物(W)并进行真空渗碳处理的热处理室(6)相互邻接地配置，并且这些加热器室(7)和热处理室(6)之间由隔焰板(5)分隔。在加热器室(7)和热处理室(6)分别独立地设置有导入燃尽用的气体的气体导入部(19，20)。 | ||
| 申请公布号 | CN106104187A | 申请公布日期 | 2016.11.09 |
| 申请号 | CN201580013989.2 | 申请日期 | 2015.04.09 |
| 申请人 | 株式会社IHI;IHI机械系统股份有限公司 | 发明人 | 胜俣和彦;矶本馨;永田乔裕;中山公;清水勇助;西谷玄 |
| 分类号 | F27B5/05(2006.01)I;C21D1/06(2006.01)I;C21D1/773(2006.01)I;C23C8/20(2006.01)I;F27B5/14(2006.01)I;F27B5/16(2006.01)I;F27D7/02(2006.01)I | 主分类号 | F27B5/05(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人 | 杨楷;毛立群 |
| 主权项 | 一种热处理装置，加热处理被处理物并进行真空渗碳处理，在所述热处理装置内具备：加热器室，具有加热器；热处理室，与所述加热器室相互邻接地配置，加热处理所述被处理物并进行真空渗碳处理；隔焰板，对所述加热器室与所述热处理室之间进行分隔；气体导入部，导入燃尽用的气体，分别独立地设置于所述加热器室与所述热处理室。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||