A Chemical Vapor Deposition Apparatus and Its Cleaning Method

摘要

화학기상증착장치는 반응챔버, 반응챔버의 상부에 위치한 반응구역, 반응챔버 하부에 위치한 배기구역, 반응챔버 외부에 연결된 펌핑장치를 포함한다. 상기 배기구역은 배기구역을 배기챔버와 저장챔버로 분리하는 격리디바이스를 포함한다. 격리디바이스는 배기챔버와 저장챔버 사이를 연결하는 가스 개구를 갖는 측벽을 포함한다. 배기구역은 가스 개구의 상단과 하단 사이에서 상하로 이동할 수 있는 이동가능한 스크래핑 컴포넌트를 더 포함한다.