发明名称 占领图形填充方法
摘要 本发明公开了一种占领图形填充方法,包括如下步骤:步骤一、根据图形数据占比率要求值和图形隔离规则确定占领图形的填充规则;步骤二、在版图中找出需要进行占领图形填充的空白区域;步骤三、按照占领图形的填充规则在版图的空白区域进行占领图形填充。本发明能实现占领图形的智能填充,使占领图形填充后的图形数据占比率无限逼近要求值。
申请公布号 CN106096087A 申请公布日期 2016.11.09
申请号 CN201610373502.8 申请日期 2016.05.31
申请人 上海华虹宏力半导体制造有限公司 发明人 陈华伦;孔蔚然
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人 郭四华
主权项 一种占领图形填充方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一、提供对应层次的版图的图形数据占比率要求值和图形隔离规则;根据所述图形数据占比率要求值和所述图形隔离规则确定占领图形的填充规则,所述填充规则为通过改变所述占领图形的大小、形状和间距来保证填充区域的图形数据占比率满足所述图形数据占比率要求值以及满足所述图形隔离规则;步骤二、在所述版图中找出需要进行占领图形填充的空白区域;步骤三、按照所述占领图形的填充规则在所述版图的空白区域进行占领图形填充,使占领图形填充后的图形数据占比率逼近所述图形数据占比率要求值。
地址 201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号