发明名称 Etching composition for slope-type etching apparatus and etching method using the same
摘要 본 발명은 경사식 에칭장치, 예를 들어 경사식 기판처리장치를 이용한 에칭과정에서 기판 전체에 대해 균일한 에칭성능을 발휘할 수 있는 에칭액 조성물 및 이를 이용한 에칭방법에 관한 것이다.
申请公布号 KR101674210(B1) 申请公布日期 2016.11.09
申请号 KR20100052493 申请日期 2010.06.03
申请人 동우 화인켐 주식회사 发明人 박영철;진영준;이준우
分类号 C09K13/06 主分类号 C09K13/06
代理机构 代理人
主权项
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