发明名称 二つ以上のモジュールの整列スタックを提供するためのアッセンブリーおよびそのようなアッセンブリーを備えているリソグラフィシステムまたは顕微鏡法システム
摘要 The invention relates to a charged particle system for processing a target surface with at least one charged particle beam. The system comprises an optical column with a beam generator module for generating a plurality of charged particle beams, a beam modulator module for switching on and off said plurality of beams and a beam projector module for projecting beams or subbeams on said target surface. The system further comprises a frame supporting each of said modules in a fixed position and alignment elements for aligning at least one of beams and/or subbeams with a downstream module element.
申请公布号 JP6022576(B2) 申请公布日期 2016.11.09
申请号 JP20140528902 申请日期 2012.09.12
申请人 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. 发明人 カッペルホフ、ピーター
分类号 H01L21/027;G03F7/20;H01J37/16 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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