发明名称 | 光刻设备和器件制造方法 | ||
摘要 | 一种方法,涉及:从作为光刻设备的一部分的传感器获得与光刻设备的振动有关的第一校准振动数据;以及获得第二校准振动数据,所述第二校准振动数据是光刻设备的第一参数数据的分量。根据第一校准振动数据和第二校准振动数据计算出滤波器,所述滤波器使得当应用于第一校准振动数据时其输出与第二校准振动数据更紧密地关联。然后,可在光刻工艺期间将滤波器应用到使用第一传感器获得的振动数据,以获得对第一参数数据的振动分量的估计。 | ||
申请公布号 | CN104769502B | 申请公布日期 | 2016.11.09 |
申请号 | CN201380057806.8 | 申请日期 | 2013.10.08 |
申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | 埃多·赫尔斯伯斯 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
主权项 | 一种器件制造方法,包括将图案从构图装置转移到衬底上,其中所述方法包括:使用光刻设备内的传感器来获得与所述光刻设备的振动相关的第一校准振动数据;使用传感器来获得第二校准振动数据,所述第二校准振动数据是所述光刻设备的感兴趣的参数的振动分量;以及使用所述第一校准振动数据和所述第二校准振动数据来计算滤波器,所述滤波器可操作为使得当应用于所述第一校准振动数据时,所述滤波器的输出与所述第二校准振动数据更紧密地关联。 | ||
地址 | 荷兰维德霍温 |