发明名称 |
FinFET检测结构 |
摘要 |
本实用新型揭示了一种FinFET检测结构。所述FinFET检测结构包括多个鳍;多个多晶硅结构,所述多个多晶硅结构将所述多个鳍首尾依次连接;两个金属结构,分别设置于第一个多晶硅结构和最后一个多晶硅结构上。通过在两个金属结构上施加检测信号,可获悉FinFET内部鳍之间的电性参数,可以判断是否存在短路、桥接等异常。 |
申请公布号 |
CN205670543U |
申请公布日期 |
2016.11.02 |
申请号 |
CN201620561686.6 |
申请日期 |
2016.06.08 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
赵海 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L23/544(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种FinFET检测结构,其特征在于,包括:多个鳍;多个多晶硅结构,所述多个多晶硅结构将所述多个鳍首尾依次连接;两个金属结构,分别设置于第一个多晶硅结构和最后一个多晶硅结构上。 |
地址 |
300385 天津市西青区中国天津市西青经济开发区兴华道19号 |